| 產品名稱 | 產品特性 | 適合行業 | 使用設備 |
| CMP4012 | 內含特殊表面活性劑，抗再污染防止劑等 | 適合太陽能單晶、多晶硅晶圓切割后去金屬離子洗凈 | 噴淋，超聲波 |
| CMP4400S/4400G | 有效去除有機和無機顆粒，低泡等 | 太陽能硅片切割研磨，GAN，SIC，陶瓷基板，光學玻璃等洗凈 | 噴淋，超聲波 |
| CMP4403 | 無VOC，生物分解性良好，廢水易處理等 | 適合對于晶圓，GAN，SIC，陶瓷基板、金剛石切割后等清洗 | 噴淋，超聲波 |
| CMP4406 | 藍寶石洗凈液，低泡易生物分解等 | 適合對于GAN、SIC、藍寶石，晶圓研磨后、鍍膜前后等清洗 | 噴淋，超聲波 |
| CMP4459 | 良好分散特性 | 適合晶圓、半導體、中性光學玻璃、觸變屏等清洗 | 噴淋，超聲波 |
| CMP4500 | 無色透明液體、非離子特性等 | 適合晶圓CMP研磨后清洗、硬盤、磁頭 | 噴淋，超聲波 |
